类型：图像其它大小：3.23 MB
语言：简体中文 日期：2024-04-01
BAO Mask Avenger是一款非常实用的高级AE遮罩插件，有了这款AE插件，我们就可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，同时在三维空间制作出路径动画。
拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效
通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。
3D面具。 Mask Avenger现在可以在3D中控制蒙版，而无需使用空图层和表达式。然后更快地计算掩模，并简化表达式写入。
背景烘焙。当需要修改蒙版时，蒙版复仇者会立即对其进行转换当前时间，并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。
工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，烘焙100,000个关键帧需要超过10个，但新的烘焙系统允许您继续工作而它正在烘烤。不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能，运行速度更快。
面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以动态地显示它们之前的变化
适用于面具。这可以避免在表达式，其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。
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